전자빔 증발 진공 코팅 장비는 하드 필름, 장식 필름, ITO 필름, 밴드패스 필터 및 HR 필름을 포함한 AR/AF 코팅을 증착하는 데 일반적으로 사용됩니다. 고효율, 강력한 생산 능력, 낮은 생산 비용 등의 장점을 자랑합니다. AR 필름(기재 유리 투과율 > 91.5%)의 경우 420-680nm 파장 대역에서 단면- 평균 투과율은 > 95%이고 반사율은 < 0.5%(평균)입니다. 양면 평균 투과율 > 98% 및 반사율 < 0.5%(평균). 그것은 광범위한 시장 응용 프로그램을 가지고 있습니다.
진공 증발 코팅 기술에는 증발 물질을 수냉식 강철 도가니에 넣고 전자빔으로 직접 가열하는 기술이 포함됩니다. 증발하는 물질은 기화한 다음 기판 표면에 응축되어 필름을 형성합니다. 이는 진공증착코팅 기술의 중요한 가열 방식이자 발전 추세입니다. 전자빔 증발은 기존 저항 가열 증발의 많은 단점을 극복하며 특히 높은-융점-및 고순도-박막 재료를 제조하는 데 적합합니다.
전자빔 충격 증발을 이용한 진공증착기술은 전자빔 증발원의 형태에 따라 링건, 직선건, E-형 건, 중공음극형 전자총 등 여러 가지 유형으로 더 분류할 수 있습니다.
링건은 링- 모양의 음극에서 전자빔을 방출합니다. 초점이 맞춰지고 편향된 후 빔은 도가니에 부딪혀 금속이 증발합니다. 구조는 상대적으로 간단하지만 출력과 효율성이 낮아 주로 실험실 장치로 사용됩니다. 더 이상 생산 시설에서 사용되지 않습니다.
직선총은 전자가 필라멘트 음극에서 방출되어 미세한 빔으로 집중되고 양극에 의해 가속된 다음 도가니에 충돌하여 코팅 재료를 녹이고 증발시키는 축대칭 선형 가속기입니다. 직선형 총의 출력은 수백 와트에서 수백 킬로와트까지 다양합니다. 일부는 진공 증발에 사용되는 반면 다른 일부는 진공 제련에 사용됩니다. 직선형 건의 단점은 증발된 물질이 건 구조를 오염시켜 작동 불안정을 초래할 수 있다는 것입니다. 또한 필라멘트에서 빠져나오는 나트륨 이온도 코팅을 오염시킬 수 있습니다. 최근 서독의 한 회사는 전자빔 출구에 편향 자기장을 추가하고 필라멘트에 독립적인 대피 시스템을 통합하여 직선총의 개선된 버전을 개발했습니다. 이는 코팅의 필라멘트 오염을 완전히 제거할 뿐만 아니라 건의 수명도 향상시킵니다.
270-도 편향 기능을 갖춘 e-형 전자총은 직선-건 전자 증발의 단점을 극복했으며 가장 널리 사용되는 전자빔 증발 소스 중 하나입니다. e-타입 전자총은 높은 전력 밀도를 생성하고, 고-융점-금속을 녹이고, 고에너지 증발 입자를 생성하여 필름과 기판 사이의 강력한 결합과 우수한 필름 품질을 제공할 수 있습니다. 단점은 전자총이 고진공과 음의 고전압을 필요로 하여 장비 구조가 복잡하고 안전성이 낮으며 유지보수가 어렵고 비용이 높다는 점이다.
중공 음극선 전자총은 저{0}}전압, 고전류-중공 음극 방전에 의해 생성된 플라즈마 전자빔을 가열원으로 활용합니다. 중공 탄탈륨 튜브를 음극으로, 도가니를 양극으로, 탄탈륨 튜브 근처의 보조 양극을 사용합니다. 중공음극 전자총을 이용한 기상증착 과정에서 생성된 증발 이온은 높은 에너지와 높은 이온화율을 가지므로 고품질- 필름을 생성합니다. 중공음극형 전자총은 e-형 전자총보다 낮은 진공도를 필요로 하며 낮은 전압에서 작동하므로 장비가 상대적으로 간단하고 안전하며 저렴합니다. 현재 우리나라에서는 e-형 전자총과 중공음극형 전자총이 모두 증착 및 이온 도금 장비에 성공적으로 적용되고 있습니다. 총력은 수만 킬로와트에 달하며, 기계, 전자 등 산업용으로 다양한 박막이 증착됐다.
전자빔 증발 진공 코팅 장비의 증발 소스의 장점은 다음과 같습니다.
1) 전자빔 충격 열원은 빔 전류 밀도가 높아 저항 가열원보다 훨씬 높은 에너지 밀도를 달성합니다. 높은 증발 속도로 최대 섭씨 3000도까지 물질을 증발시킬 수 있습니다.
2) 증발되는 물질을 수냉식 도가니에 넣기 때문에 용기 물질의 증발과 용기 물질과 증발 물질 사이의 반응이 방지되며 이는 코팅의 순도를 향상시키는 데 중요합니다.
3) 증발물질의 표면에 직접 열을 가할 수 있어 열효율이 높고 열전도와 복사를 통해 손실을 최소화할 수 있다.
